Eigenschappen van H6OSi2 (Disiloxaan):
Elementsamenstelling van H6OSi2
Gerelateerde verbindingen
Disiloxaan (H₆OSi₂): Chemische VerbindingWetenschappelijk Reviewartikel | Chemie Referentiereeks
SamenvattingDisiloxaan (H₆OSi₂) vertegenwoordigt het eenvoudigste lid van de siloxaanfamilie, gekenmerkt door het onderscheidende silicium-zuurstof-silicium (Si-O-Si) skelet met waterstofsubstituenten. Dit kleurloze, scherp ruikende gas heeft een kookpunt van -15,2°C en een dipoolmoment van 0,24 D. De verbinding vertoont uitzonderlijke structurele kenmerken, in het bijzonder de ongebruikelijk wijde Si-O-Si bindingshoek van ongeveer 142° in de vaste fase, die de typische tetraëdrische hoek aanzienlijk overschrijdt. Disiloxaan dient als een fundamentele modelverbinding voor het begrijpen van siloxaanchemie en vindt toepassingen in verschillende industriële sectoren, waaronder cosmetica, coatings en specialiteitschemicaliën. De synthese verloopt typisch via hydrolytische koppeling van silanoltussenproducten. De fysische en chemische eigenschappen van de verbinding weerspiegelen de unieke elektronische kenmerken van silicium-zuurstofbinding, wat het een belangrijk onderwerp maakt in organosiliciumchemieonderzoek. InleidingDisiloxaan, systematisch genoemd hexahydrodisiloxaan en algemeen aangeduid als disilylether of disilyloxide, neemt een fundamentele positie in in de organosiliciumchemie als de eenvoudigste siloxaanverbinding. Met de molecuulformule H₆OSi₂ vertegenwoordigt deze verbinding de basiseenheid waaruit complexere siloxaanpolymeren en materialen afgeleid zijn. De verbinding werd voor het eerst gedetailleerd gekarakteriseerd in het midden van de 20e eeuw, toen onderzoek naar organosiliciumverbindingen zich snel uitbreidde. Disiloxaan dient als een cruciaal referentieverbinding voor het begrijpen van de elektronische en structurele eigenschappen van de siloxaangroep, die de ruggengraat vormt van talrijke industrieel belangrijke siliconenmaterialen. De bestudering ervan biedt essentiële inzichten in de verschillen tussen silicium-zuurstof- en koolstof-zuurstofbinding, in het bijzonder de hyperconjugatieve interacties die siloxanen onderscheiden van hun koolstofanalogen. Moleculaire Structuur en BindingMoleculaire Geometrie en Elektronische StructuurDisiloxaan vertoont een gebogen moleculaire geometrie bij het zuurstofatoom, met een Si-O-Si bindingshoek van 142° zoals bepaald door röntgenkristallografie bij 108 K. Deze hoek overschrijdt aanzienlijk de typische tetraëdrische hoek van 109,5° en contrasteert scherp met de 111° C-O-C bindingshoek gevonden in zijn koolstofanaloog, dimethylether. De siliciumatomen nemen sp³ hybridisatie aan met een benaderende lokale C₃v symmetrie, resulterend in H-Si-H bindingshoeken van ongeveer 109,5°. De Si-O bindingslengte meet 1,634 Å, aanzienlijk langer dan typische C-O bindingen vanwege de grotere atoomstraal van silicium. De elektronische structuur van disiloxaan vertoont opmerkelijke kenmerken die voortkomen uit negatieve hyperconjugatie. Dominante p(O) → σ*(Si-H) interacties treden op waarbij zuurstof p orbitalen elektrondichtheid doneren aan silicium-waterstof σ* antibindende orbitalen. Dit hyperconjugatieve effect verklaart de verbrede bindingshoek en verminderde basiciteit van het zuurstofatoom in vergelijking met ethers. Secundaire bindingsinteracties omvatten p(O) → d(Si) terugdonatie, waarbij zuurstof elektrondichtheid doneert aan silicium 3d orbitalen, wat gedeeltelijke dubbele bindingkarakter bijdraagt aan de Si-O binding. Spectroscopisch bewijs van elektrondiffractie en kernspinresonantiespectroscopie ondersteunt deze elektronische configuratie, waarbij ²⁹Si NMR chemische verschuivingen verschijnen op ongeveer -15 ppm relatief aan TMS. Chemische Binding en Intermoleculaire KrachtenDe Si-O bindingen in disiloxaan vertonen bindingsdissociatie-energieën van ongeveer 452 kJ/mol, aanzienlijk lager dan typische C-O bindingen in ethers (ongeveer 360 kJ/mol voor dimethylether). Deze verminderde bindingssterkte weerspiegelt de hyperconjugatieve interacties die de Si-O binding verzwakken terwijl Si-H bindingen worden versterkt. De verbinding heeft een dipoolmoment van 0,24 D, aanzienlijk kleiner dan dat van dimethylether (1,30 D), wat duidt op een verminderde polariteit ondanks de wijdere bindingshoek. Intermoleculaire krachten in disiloxaan bestaan voornamelijk uit zwakke van der Waals interacties vanwege het niet-polaire karakter van de Si-H bindingen en het beperkte dipoolmoment. Londen dispersiekrachten domineren de vaste-stofstructuur, die kristalliseert in een orthorhombisch systeem met ruimtegroep Pmm2. De afwezigheid van significante waterstofbrugvormingsmogelijkheid onderscheidt disiloxaan van verbindingen die O-H of N-H bindingen bevatten, wat resulteert in relatief lage kook- en smeltpunten ondanks de aanwezigheid van zuurstof. De vluchtigheid en lage intermoleculaire interacties van de verbinding maken het zeer geschikt voor gasfase spectroscopische studies en toepassingen die snelle verdamping vereisen. Fysische EigenschappenFasegedrag en Thermodynamische EigenschappenDisiloxaan bestaat als een kleurloos gas onder standaardomstandigheden (25°C, 1 atm) met een karakteristieke scherpe geur. De verbinding condenseert tot een vluchtige vloeistof onder zijn kookpunt van -15,2°C en stolt bij -144°C. De dampdruk volgt de Clausius-Clapeyron vergelijking met parameters die kenmerkend zijn voor zwak interagerende moleculen. De dichtheid van vloeibaar disiloxaan meet 0,739 g/mL bij -20°C, aanzienlijk lager dan water vanwege de afwezigheid van sterke intermoleculaire interacties. Thermodynamische parameters omvatten een verdampingswarmte van 21,5 kJ/mol en smeltwarmte van 5,8 kJ/mol. De soortelijke warmtecapaciteit bij constante druk (Cₚ) meet 89,2 J/mol·K voor de gasfase, terwijl de vloeistoffase een hogere warmtecapaciteit vertoont van 127 J/mol·K. De verbinding vertoont ideaal gasgedrag onder standaardomstandigheden met minimale afwijking van de ideale gaswet. De kritische temperatuur meet 176°C met een kritische druk van 38,5 atm, wat relatief zwakke intermoleculaire krachten aangeeft in vergelijking met soortgelijke organische verbindingen met molecuulgewicht. Spectroscopische KenmerkenInfraroodspectroscopie onthult karakteristieke vibratiemodi inclusief Si-H rekken bij 2185 cm⁻¹ en 2195 cm⁻¹, Si-O-Si asymmetrische rek bij 1020 cm⁻¹, en symmetrische rek bij 470 cm⁻¹. De Si-H buigmodi verschijnen bij 925 cm⁻¹ en 850 cm⁻¹, terwijl rockvibraties optreden bij 420 cm⁻¹. Raman spectroscopie bevestigt deze toewijzingen en biedt aanvullende informatie over de symmetrische vibratiemodi die IR-inactief zijn. Kernspinresonantiespectroscopie toont een ¹H NMR signaal bij δ 4,2 ppm voor de siliciumgebonden waterstoffen, terwijl ²⁹Si NMR een singlet vertoont bij δ -15,2 ppm. Het ¹⁷O NMR signaal, wanneer verrijkt, verschijnt op ongeveer δ 40 ppm relatief aan water, wat de onafgeschermde omgeving van het zuurstofatoom weerspiegelt. Massaspectrometrie toont een moleculair ionpiek bij m/z 78 met een karakteristiek fragmentatiepatroon inclusief verlies van waterstof (m/z 77), silanolfragment (m/z 47, SiOH⁺), en silylion (m/z 31, SiH₃⁺). Chemische Eigenschappen en ReactiviteitReactiemechanismen en KinetiekDisiloxaan vertoont matige reactiviteit die kenmerkend is voor hydrosilanen, waarbij het deelneemt aan hydrolyse, oxidatie en substitutiereacties. De Si-H bindingen ondergaan heterolytische splitsing in aanwezigheid van sterke basen of Lewiszuren, wat hydridetransferreacties vergemakkelijkt. Hydrolyse verloopt langzaam met water maar versnelt onder zure of basische omstandigheden, waarbij silanol (H₃SiOH) als het initiële product wordt gevormd, gevolgd door condensatie om disiloxaan opnieuw te vormen. Dit omkeerbare hydrolyse-condensatie-evenwicht heeft een snelheidsconstante van ongeveer 2,3 × 10⁻⁴ s⁻¹ bij pH 7 en 25°C. Oxidatiereacties treden op met sterke oxidatiemiddelen zoals kaliumpermanganaat of chroomtrioxide, resulterend in splitsing van Si-H bindingen om silanolen en uiteindelijk silicaatsoorten te vormen. De verbinding vertoont stabiliteit ten opzichte van zwakke oxidanten en atmosferische zuurstof onder normale omstandigheden. Halogenering verloopt selectief op de siliciumcentra, waarbij chloorgas H₃SiOSiH₂Cl en uiteindelijk H₃SiOSiCl₃ oplevert onder gecontroleerde omstandigheden. De activeringsenergie voor chlorering meet 45 kJ/mol, waarbij reactiesnelheden tweede-orde kinetiek volgen. Zuur-Base- en RedoxeigenschappenHet zuurstofatoom in disiloxaan vertoont een aanzienlijk verminderde basiciteit in vergelijking met typische ethers, met een protonaffiniteit geschat op 754 kJ/mol versus 852 kJ/mol voor dimethylether. Deze verminderde basiciteit is het gevolg van de hyperconjugatieve interacties die zuurstof elektrondichtheid delokaliseren. De verbinding vormt geen stabiele oxoniumionen onder normale omstandigheden en vertoont weerstand tegen protonering, zelfs met sterke zuren. Redoxeigenschappen omvatten een reductiepotentiaal van -1,8 V versus SCE voor Si-H bindingreductie, wat wijst op matig hydridisch karakter. De verbinding dient als een mild reductiemiddel voor carbonylverbindingen en andere elektrofielen onder geschikte omstandigheden. Elektrochemische studies onthullen onomkeerbare oxidatiegolven bij +1,2 V versus Ag/AgCl, overeenkomend met oxidatie van silicium-waterstofbindingen. De verbinding vertoont stabiliteit over een breed pH-bereik van 3 tot 11, waarbij versnelde afbraak optreedt onder sterk zure of basische omstandigheden. Synthese en BereidingsmethodenLaboratorium Synthese RoutesDe meest voorkomende laboratoriumsynthese van disiloxaan omvat hydrolytische koppeling van chloraansilaanprecursoren. Trichloorsilaan (HSiCl₃) ondergaat gecontroleerde hydrolyse met water volgens de reactie: 2HSiCl₃ + 3H₂O → H₃SiOSiH₃ + 6HCl. Deze reactie verloopt typisch in etherische oplosmiddelen bij 0°C om de exothermie te controleren en polysiloxaanvorming te voorkomen. Opbrengsten variëren van 60-75% met zorgvuldige controle van stoichiometrie en reactieomstandigheden. Alternatieve synthetische routes omvatten de gekatalyseerde dehydratatie van silanol (H₃SiOH) met behulp van verschillende zuurkatalysatoren. Deze methode vereist in situ generatie van silanol uit chloraansilaanhydrolyse, gevolgd door onmiddellijke zuurgekatalyseerde condensatie. Recente ontwikkelingen gebruiken goud-op-koolstofkatalysatoren of indiumtribromidekatalysatoren voor directe oxidatie van hydrosilanen met water, wat verbeterde opbrengsten tot 85% oplevert onder mildere omstandigheden. Zuivering omvat typisch fractionele destillatie bij lage temperatuur (-30°C tot -10°C) om disiloxaan te scheiden van silanol en siloxanen met hoger molecuulgewicht. Analytische Methoden en KarakteriseringIdentificatie en KwantificeringGaschromatografie met massaspectrometrische detectie biedt de meest betrouwbare methode voor disiloxaan identificatie en kwantificering. Capillaire kolommen met niet-polaire stationaire fasen (DB-1, HP-1) bereiken uitstekende scheiding met retentie-indices van ongeveer 450-500. Detectielimieten bereiken 0,1 ppm met behulp van geselecteerde ionmonitoring van karakteristieke fragmenten bij m/z 78, 77 en 47. Infraroodspectroscopie dient als een snelle kwalitatieve methode waarbij karakteristieke Si-H en Si-O-Si absorpties definitieve identificatie bieden. Kwantitatieve IR-analyse gebruikt de sterke Si-H rekband bij 2185 cm⁻¹ met een molaire absorptiviteit van 320 L·mol⁻¹·cm⁻¹. Kernspinresonantiespectroscopie biedt complementaire structurele informatie, in het bijzonder ²⁹Si NMR, dat ondubbelzinnige bevestiging van de disiloxaanstructuur biedt door zijn karakteristieke singlet bij δ -15,2 ppm. Toepassingen en GebruikenIndustriële en Commerciële ToepassingenDisiloxaan dient voornamelijk als een precursor en modelverbinding in siliconenchemieonderzoek in plaats van als een commercieel product op zich. De derivaten, in het bijzonder hexamethyldisiloxaan, vinden uitgebreide toepassingen in meerdere industrieën. In cosmetica en persoonlijke verzorgingsproducten fungeren vluchtige siloxanen als dragers, oplosmiddelen en conditioneermiddelen vanwege hun lage oppervlaktespanning, hoge spreidbaarheid en snelle verdamping. Deze eigenschappen maken ze waardevol in anti-transpiratiemiddelen, haarcrèmes en huidverzorgingsformuleringen. Het nut van de verbinding strekt zich uit tot industriële toepassingen, inclusief oppervlaktebehandelingen, afwerklagen en antischuimmiddelen. In textielfabricage bieden siloxanen waterafstoting en zachtheid aan stoffen. Papiercoatings gebruiken siloxanen voor afwerkeigenschappen in kleeftoepassingen. De elektronica-industrie gebruikt hoogzuivere siloxanen als reinigingsmiddelen en oplosmiddelen voor delicate componenten vanwege hun lage residu bij verdamping. De industriële productie van siloxaanderivaten overschrijdt jaarlijks enkele miljoenen tonnen, wat hun economische betekenis in meerdere sectoren weerspiegelt. Historische Ontwikkeling en OntdekkingHet onderzoek naar disiloxaan begon serieus in de jaren 1950, toen organosiliciumchemie opkwam als een afzonderlijk veld. Vroege structurele studies door Lord, Robinson en Schumb in 1956 verschaften de eerste gedetailleerde karakterisering van de moleculaire geometrie van de verbinding met behulp van elektrondiffractietechnieken. Hun werk onthulde de onverwacht wijde Si-O-Si bindingshoek, wat theoretisch onderzoek naar de bindingsbijzonderheden van siloxanen aanwakkerde. Volgend onderzoek gedurende de jaren 1960 en 1970 werkte de elektronische structuur verder uit, waarbij Varma, MacDiarmid en Miller significante inzichten bijdroegen in de hyperconjugatieve interacties die verantwoordelijk zijn voor de structurele anomalieën. De ontwikkeling van moderne spectroscopische technieken, in het bijzonder multinucleaire NMR-spectroscopie, maakte een preciezere bepaling van moleculaire parameters en reactiemechanismen mogelijk. Recent onderzoek richt zich op katalytische toepassingen en het ontwikkelen van efficiëntere synthetische methodologieën, voortbouwend op het fundamentele begrip dat is opgebouwd door decennia van disiloxaanonderzoek. ConclusieDisiloxaan vertegenwoordigt een fundamentele verbinding in de organosiliciumchemie waarvan de bestudering de unieke elektronische en structurele eigenschappen van siloxaangroepen heeft belicht. De ongebruikelijk wijde Si-O-Si bindingshoek en verminderde zuurstofbasiciteit van de verbinding zijn het gevolg van significante hyperconjugatieve interacties die silicium-zuurstofbinding onderscheiden van zijn koolstofanalogen. Deze kenmerken liggen ten grondslag aan de wijdverspreide bruikbaarheid van siloxaanderivaten in industriële en commerciële toepassingen, variërend van cosmetica tot specialiteitsmaterialen. Doorlopend onderzoek blijft nieuwe synthetische methodologieën en katalytische toepassingen verkennen, terwijl het de fundamentele bindingsprincipes verder opheldert die disiloxaan en zijn derivaten uniek waardevol maken in de moderne chemie. | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Database met eigenschappen van chemische verbindingenDeze database bevat de fysische eigenschappen en alternatieve namen van duizenden chemische verbindingen. In een chemische formule kunt u gebruiken:
De database bevat smeltpunten, kookpunten, dichtheden en alternatieve namen verzameld uit verschillende chemische bronnen. Wat zijn samengestelde eigenschappen?Eigenschappen van chemische verbindingen omvatten fysieke kenmerken zoals smeltpunt, kookpunt en dichtheid. Deze zijn belangrijk voor chemische identificatie en toepassingen. Alternatieve namen helpen bij het identificeren van dezelfde verbinding wanneer er naar wordt verwezen met verschillende naamgevingsconventies.Hoe gebruik je deze tool?Voer een chemische formule (bijvoorbeeld H2O) of een verbindingsnaam (bijvoorbeeld water) in om beschikbare eigenschappen en alternatieve namen op te zoeken. De tool doorzoekt de database en geeft alle beschikbare fysieke eigenschappen en bekende alternatieve namen voor de verbinding weer. | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
